一则消息传来美国始料不及 不曾想到 上海微电子这么给力

由于美国持续对华为集成ic控制，一时间华为深陷到集成ic困境当中。

尽管目前像华为、阿里、紫光等一些国产芯片生产商，在集成电路芯片的设计上已走入了自个的路线，可是说到本质上，在整套芯片产业链上，目前我国依然受限于美国技术。

尤其是在硬件设备关键环节上，因为欠缺高精密光刻机的供货，目前我国在非美国芯片产业链层面，可以完成的芯片仅仅停留在90nm，对比于台积电、三星电子确实是天差地别。

也更是由于这一缘故，中芯国际在开展集成ic代工生产上只有借助进口荷兰ASML公司产品研发生产制造的高精密极紫外光刻机，才可以完成对7nm工艺集成ic的代工生产。

可是这一点也被美国看到了，因此一直到现在，中芯国际从ASML公司下购入的7nm工艺的极紫外光刻机一直没法来到 ，这也造成 目前中芯国际最好标准的集成ic代工生产只有保持在14nm工艺上。

但是由于近期一则信息的发出，一切都发生改变。

在6月上旬，上海微电子公司忽然公布了一个喜讯：上海微电子技术将在2021-2023年交货第一台28nm加工工艺的国内沉浸式体验光刻机。

关于这则信息的发出，代表着我国在国内生产制造的半导体全产业链未来发展上更进一步了一步。

实际上这还并不是事情的全部，依据有关行业专业人员详细介绍，上海微电子技术产品研发的这台光刻机将选用ArF灯源，在数次曝出下能够完成对11nm工艺集成ic的生产制造，假如改成更高精密的操作台，还能完成7nm工艺集成ic的产品研发。

随着这则喜讯的发出，关于华为等芯片设计公司来讲算得上惊喜万分，因为在没多久的未来，应用国产光刻机造集成ic的好日子就要到，从此不必担心美国在光刻机上“卡脖子”。

可是对于美国来讲，这肯定是一个始料不及的噩耗，相信美国怎么也不会想到，我国会在这么短的时间里就进行高精密光刻机的攻克。

上海微电子公司的此次攻克肯定是历经长期积累的結果，因为光刻机的结构是极为繁杂的，不太可能说美国刚对华为集成ic控制，上海微电子技术就能在光刻机行业得到攻克。

上海微电子在光刻机迈开的这一步仅仅一个刚开始，后边我国将陆陆续续补足半导体全产业链中的薄弱点。

可能10年以后，中国就要走在芯片行业的前端，让美国再也不能对我们指手画脚。