基础c4d教程：制作立体建模的方法以及技巧

效果图

今天我们学习制作立体建模，4视图的配合应用，灯光的布置，材质的款式等，说起来学习的很多，但其实我们以前的文章都有涉及，真要说起来，都是在复习而已（每天5分钟，充实一整天）

教程

1、

首先打开我们的C4D

2、

文件-新建长按自由样条，新建一个文本，输入D点击转为可编辑对象，点击点选项删除D的内圈，点击左上角的点，右键设置起点，不勾选闭合样条点击D左下角的点，在顶视图里向上移动一段距离在正视图里，继续向上移动与D左上角的点相交

3、

长按自由样条，新建一个矩形，将宽度和高度改为33长按细分曲面，新建一个扫描，将文本放到矩形下方，一起放到扫描下方点击文本，点击点选项，右键创建点，在右视图里D横线上创建一个点

4、

复制文本和矩形，得到文本1和矩形1点击文本1，点击点选项，删除D以外的点，得到形状C，缩小移到C的底端和D的顶端重合长按细分曲面，新建一个扫描1，将文本1放到矩形1下方，一起放到扫描1下方

5、

长按立方体，新建一个圆柱将半径改为6，高度改为252；封顶里勾选圆角，半径改为3，在正视图里移动到D的顶端中间新建一个立方体，尺寸X，Y，Z都改为33，在右视图和正视图里移动到D顶端重合复制立方体，得到立方体1，在正视图里向上移动和C顶端重合复制圆柱，得到圆柱1，在正视图里移动向上移动圆柱1到C顶端中间复制立方体1，得到立方体2，在顶视图里向上移动和D的边重合复制圆柱，得到圆柱2，在正视图里向下移动到D底端中间

6、

复制文本，得到文本2点击点选项，删除D以外的点，勾选闭合样条，在正视图里放大和文本一样大小长按细分曲面，新建一个挤压，将文本2放到挤压下方点击挤压，对象里，移动的第三个数据改为10；封顶里，顶端和末端都改为圆角封顶，半径改为2

7、

复制文本2，得到文本3，在右视图里移动到右边复制C的文本，得到文本4，在右视图里移动到右边和文本3在一条直线上长按阵列，新建一个样条布尔，将文本3和文本4放到样条布尔下方，右键删除对象+连接长按细分曲面，新建一个挤压1将样条布尔放到挤压下方，对象里，移动的第三个数据改为10；封顶里，顶端和末端都改为圆角封顶，半径改为2

8、

新建一个立方体1，将尺寸X，Y，Z都改为71点击运动图形，新建一个克隆，将立方体1放到克隆下方将模式改为网络排列，数量改为26,1,27；模式改为每步，尺寸改为88,200,85点击运动图形-效果器，新建一个随机点击克隆-效果器，将随机拖入效果器里点击随机，参数里，P.X改为0，P.Y改为18，P.Z改为0

9、

长按立方体，新建一个平面，将平面放大，移动到克隆下方新建一个摄像机，选择角度，右键添加保护标签新建一个下载的灯光，放到主体建模的右后方新建一个物理天空，天空里，强度改为50；太阳里，强度改为40，饱和度修正改为0，色调修正改为0；右键添加合成标签，不勾选摄像机可见新建一个下载的HDR预设长按立方体，新建一个空白对象，向上移动空白对象到主体建模的中间

10、

新建一个材质，命名为背景颜色模式改为HSV，H改为234，S改为52，V改为61反射里，添加一层GGX，粗糙度改为20；层菲涅耳里，菲涅耳改为绝缘体复制背景，得到克隆颜色模式改为HSV，H改为256，S改为74，V改为51反射里-层菲涅耳，折射率改为2.06新建一个材质，命名为玻璃，颜色关闭透明里，折射率改为1.517反射里，默认高光的衰减改为-22，高光强度改为57；添加一层GGX，层菲涅耳里，菲涅耳改为绝缘体，预置改为玻璃新建一个材质，命名为圆柱，颜色关闭反射里，添加一层GGX，粗糙度改为14；层菲涅耳里，菲涅耳改为导体，预置改为钢新建一个材质，命名为主体颜色模式改为HSV，H改为256，S改为0，V改为96发光里，纹理改为背光，颜色H改为214，S改为29，V改为100，光照改为80反射里，添加一层GGX，粗糙度改为5；层菲涅耳里，菲涅耳改为绝缘体凹凸里，纹理改为噪波，全局缩放改为10

11、

渲染设置里，渲染器改为物理，添加一个全局光照物理里，勾选景深点击摄像机，对象里，将空白对象拖入焦点对象里；物理里，光圈改为0.5

结语：今天我们学习了物理渲染器里的景深效果，摄像机的光圈，灯光以及预设这个是需要大家多调整几次才能得到好的成品（新知识点2个）